1장. EUV 펠리클이란? 왜 중요한가?반도체 노광 공정에서 펠리클(pellicle)은 포토마스크(회로 패턴이 새겨진 레티클)를 먼지·파티클 등 오염원으로부터 보호하는 초박막 차단막이다. 노광 과정에서 포토마스크 위에 10 μm 이하 이물이 한 점이라도 붙으면, 웨이퍼에는 수백 개 결함이 복제돼 수율이 급격히 떨어진다. 그래서 DUV(ArF) 공정부터 업계는 투과율 99 % 이상의 투명 필름 펠리클을 사용해 왔다.그러나 EUV(Extreme Ultraviolet) 공정은 파장 13.5 nm의 극단적으로 짧은 빛을 사용한다. 이 파장 대역에서는 거의 모든 물질이 빛을 흡수·산란시키기 때문에, 기존 필름형 펠리클을 그대로 쓰면 **투과율이 급락(≈10 %)**해 노광선 세기가 부족해진다. EUV 장비는 다층..